產(chǎn)品名稱：半導(dǎo)體光刻膠/LCD 光刻膠/PCB 光刻膠-齊岳廠家

產(chǎn)品描述：

半導(dǎo)體光刻膠/LCD 光刻膠/PCB 光刻膠-齊岳廠家 ? ??光刻是將電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到硅片上，為后續(xù)刻蝕工藝做準(zhǔn)備的過程。光刻是 IC 制造過程中耗時(shí)較長、 難度較大的工藝之一，耗時(shí)占 IC 制造 50%，成本占 IC 制造 1/3。在一次芯片制造中，往往要對(duì)硅片進(jìn)行上十次 光刻，其主要流程為清洗、涂膠、前烘、對(duì)準(zhǔn)、曝光、后烘、顯影、刻蝕、光刻膠剝離、離子注入等。在光刻 過程中，需在硅片上涂一層光刻膠，經(jīng)紫外線曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，通過顯影后，被曝光的光刻膠將被，電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過刻蝕工藝，實(shí)現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉(zhuǎn)移到硅片上。 ? 光刻膠是光刻工藝較重要的耗材，光刻膠的質(zhì)量對(duì)光刻精度至關(guān)重要。光刻膠是指通過紫外光、準(zhǔn)分子激 光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的刻材料。由于光刻膠具有光化學(xué) 敏感性和防腐蝕的保護(hù)作用，因此經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將微細(xì)電路圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到硅片。雖然光刻膠制造成本低，但是壁壘高，，難以保存。 光刻過程示意圖 ? 光刻膠是光刻工藝較重要的耗材，光刻膠的質(zhì)量對(duì)光刻精度至關(guān)重要。光刻膠是指通過紫外光、準(zhǔn)分子激 光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的刻材料。由于光刻膠具有光化學(xué) 敏感性和防腐蝕的保護(hù)作用，因此經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將微細(xì)電路圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到硅片。雖然光刻膠制造成本低，但是壁壘高，，難以保存。 光刻過程示意圖 ? 光刻膠的主要成分有光刻膠樹脂、感光劑、溶劑和添加劑。光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì)，是用來 將其它材料聚合在一起的粘合劑；光刻膠的粘附性、膠膜厚度等性質(zhì)都是由樹脂決定的。感光劑是光刻膠的核 心部分，它對(duì)光形式的輻射能，是在紫外區(qū)光的輻射能會(huì)發(fā)生反應(yīng)；曝光時(shí)間、光源所發(fā)射光線的強(qiáng)度都 和感光劑的性質(zhì)直接相關(guān)。溶劑是光刻膠中容量較大的成分；因?yàn)楦泄鈩┖吞砑觿┒际枪虘B(tài)物質(zhì)，為了將他們 均勻地涂覆，要將它們加入溶劑進(jìn)行溶解，形成液態(tài)物質(zhì)，且使之具有的流動(dòng)性，可以通過旋轉(zhuǎn)方式涂布 在晶圓表面。添加劑可以用以改變光刻膠的某些性質(zhì)，如可以通過添加染色劑來光刻膠，使其發(fā)生反射。 光刻膠的品種多種多樣，基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，按可分為光聚合型、光分解型、光交聯(lián)型三種。另外，正性和負(fù)性光刻膠是光刻膠的兩個(gè)重要品類，光照后形成可溶物質(zhì)的為正性膠，形成不可溶物質(zhì)的為負(fù) 性膠。由于性能較優(yōu)，正性光刻膠應(yīng)用更廣，但由于光刻膠需求量大，負(fù)性膠仍有的應(yīng)用市場。 產(chǎn)品供應(yīng)： 產(chǎn)品 型號(hào) 光源 類型 分辨率 厚度（um) 適用范圍 厚膠 Thick Resist SU-8 GM10xx系列 g/h/i-Line 負(fù)性 0.1um 0.1-200 具有較大的高寬比，透明度高，垂直度。 SU-8 Microchem g/h/i-Line 負(fù)性 0.5um 0.5-650 具有較大的高寬比，透明度高，垂直度。 ? g/h/i-Line 正性 1um 1—30 可用于選擇性電鍍電鍍，深硅刻蝕等工藝。 NR26-25000P g/h/i-Line 負(fù)性 ? 20-130 厚度大，相對(duì)容易去膠。 電子束光刻膠 型號(hào) 光源 類型 分辨率 厚度（um) 適用范圍 SU-8 GM1010 電子束 負(fù)性 100nm 0.1-0.2 可用于做高寬比較大的納米結(jié)構(gòu)。 HSQ 電子束 負(fù)性 6nm 30nm~180nm 分辨率較好的光刻膠，抗刻蝕。 XR-1541-002/004/006 HSQ Fox-15/16 電子束 負(fù)性 100nm 350nm~810nm 分辨率較好的光刻膠，抗刻蝕。 PMMA(國產(chǎn)) 電子束 正性 \ \ 高分辨率，適用于電子束光刻工藝，較常用的電子束光刻正膠。 PMMA（） 電子束 正性 \ \ MicroChem，分子量，適用于電子束光刻工藝，較常用的電子束光刻正膠。 薄膠 型號(hào) 光源 類型 分辨率 厚度（um) 適用范圍 S18xx系列 g-Line 正性 0.5um 0.4-3.5 較常用的薄光刻膠，分辨率高，穩(wěn)定。 SPR955系列 i-Line 正性 0.35um 0.7-1.6 高分辨率（0.35um）光刻膠，穩(wěn)定。 BCI-3511 i-Line 正性 0.35um 0.5-2 國產(chǎn)0.35um光刻膠，已經(jīng)在量產(chǎn)單位規(guī)模使用。 NRD6015 248nm 負(fù)性 0.2um 0.7-1.3 國產(chǎn)深紫外光刻膠，已經(jīng)在量產(chǎn)單位規(guī)模使用。 Lift off光刻膠 型號(hào) 光源 類型 分辨率 厚度（μm) 適用范圍 KXN5735-LO g/h/i-Line 負(fù)性 4μm 2.2-5.2 負(fù)性光刻膠;倒角65-80°，使用普通正膠顯影液顯影。 LOL2000/3000 g/h/i-Line / NA 130nm-300nm 非感光性樹脂，可以被顯影液溶解，作為lift off雙層膠工藝中底層膠使用。 ROL-7133 g/h/i-Line / 4um 2.8-4 負(fù)性光刻膠，倒角75~80°，使用普通正膠顯影液。 光刻膠配套試劑 品名 主要成分 包裝 應(yīng)用 / / 正膠顯影液 TMAH 2.38% 4LR/PC 正膠顯影液 / / 正膠稀釋劑 PGMEA 4LR/PC 稀釋劑 / / SU8 顯影液 PGMEA 4L/PC 顯影SU8光刻膠 / / RD-HMDS HMDS 500ml/PC 增粘劑 / / OMNICOAT 見MSDS 500ml/PC SU-8增粘劑 / / 上述產(chǎn)品可定制，齊岳生物均可供應(yīng)！ wyf 01.25 相關(guān)目錄： 常用光交聯(lián)型光刻膠/光聚合型/光分解型 適用范圍較廣的正性/負(fù)性電子束光刻膠

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西安齊岳生物科技有限公司是集化學(xué)科研和定制與一體的高科技化學(xué)公司。業(yè)務(wù)范圍包括化學(xué)試劑和產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售等。涉及產(chǎn)品為通用試劑的分銷、非通用試劑的定制與研發(fā)，涵蓋生物科技、化學(xué)品、中間體和化工材料等領(lǐng)域。
主營產(chǎn)品：COF、MOF單體系列：三蝶烯衍生物、金剛烷衍生物、四苯甲烷衍生物、peg、上轉(zhuǎn)換、石墨烯、光電材料、點(diǎn)擊化學(xué)、凝集素、載玻片、蛋白質(zhì)交聯(lián)劑、脂質(zhì)體、蛋白、多肽、氨基酸、糖化學(xué)等。